x射線檢測(cè)設(shè)備是指利用x光射線管產(chǎn)生x射線并利用x光探測(cè)器成像，并對(duì)所成像進(jìn)行分析的設(shè)備。x射線檢測(cè)設(shè)備的核心是x光射線管及x光探測(cè)器。

x射線檢測(cè)是常規(guī)無(wú)損檢測(cè)的重要方法之一，廣泛應(yīng)用于航空、航天、核電、國(guó)防、醫(yī)療及其它工業(yè)部門。在工業(yè)生產(chǎn)和國(guó)民經(jīng)濟(jì)中發(fā)揮了重要作用。

目前，在生活實(shí)際中，x射線膠片照相的成像質(zhì)量較高，能正確提供被測(cè)試件缺陷真實(shí)情況的可靠信息。

x射線設(shè)備又分為2d和2d兩類，2d設(shè)備只能進(jìn)行指定方向的二維圖像生成，而3d設(shè)備可以對(duì)整個(gè)物體進(jìn)行三維模型生成。

x射線形成的原理以及特性

x射線分別為韌致輻射和特征輻射，是由不同的擊發(fā)原理造成的。韌致輻射是指高速電子突然減速產(chǎn)生的輻射。帶電粒子受到庫(kù)倫場(chǎng)減速時(shí)，損失的動(dòng)能將會(huì)轉(zhuǎn)化為光子發(fā)射出來(lái)，這就是韌致輻射所產(chǎn)生的連續(xù)光譜。

特征輻射通過(guò)加大加速電壓，電子攜帶的能量增大，則有可能將金屬原子的內(nèi)層電子撞出。于是內(nèi)層形成空穴，外層電子躍遷回內(nèi)層填補(bǔ)空穴，同時(shí)放出波長(zhǎng)在0.1納米左右的光子。由于外層電子躍遷放出的能量是量子化的，所以放出的光子的波長(zhǎng)也集中在某些部分，形成了x光譜中的特征線，以此成為特性輻射。